Влизане, за да видите тази обект на други езици
In Copyright (отваря се в нов прозорец)

Diffusion-driven precipitate growth and ripening of oxygen precipitates in boron doped silicon by dynamical x-ray diffraction

Вижте на уебсайта на доставчик на данни (отваря се в нов прозорец)

Сътрудници

  • Will, Johannes
  • Gröschel, A.
  • Bergmann, C.
  • Spiecker, E.
  • Magerl, A.

Издател

  • Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)

Тема