Přihlásit se pro zobrazení této položky v jiných jazycích
Diffusion-driven precipitate growth and ripening of oxygen precipitates in boron doped silicon by dynamical x-ray diffraction
Přispěvatelé
- Will, Johannes
- Gröschel, A.
- Bergmann, C.
- Spiecker, E.
- Magerl, A.
Vydavatel
- Friedrich-Alexander-Universität Erlangen-Nürnberg (FAU)
Poskytovatelská instituce
Agregátor
Výrok o právech tohoto položka (není-li uvedeno jinak)
- http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/
Identifikátor
- http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bvb:29-opus4-44672
Jazyk
- eng
Země původu
- Germany
Název kolekce
Poprvé zveřejněno na Europeana
- 2017-04-05T12:57:41.991Z
Poslední aktualizace od poskytující instituce
- 2017-11-13T10:18:20.598Z